半导体设备-FEOL照相平面

搭建设备,使用前沿光机材料和组件实现最大吞吐量和丰产

  • 极端稳定搭建瓦法处理工具,组件以热创新素材为基础
  • 耐用材料长寿命光学学益惠,如多晶状CVD金刚石窗
  • 更严格容留从基于反应保值碳化石表(RBSIC)平面微博
FEOL照相平面
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高分辨率

极紫外线平面可提供IC特征下至5nm实现此解析对平面系统每一部分都提出了高需求, 包括振动稳定性、热爬虫和长毛板平坦性半岛综合体育俱乐部官网首页下载一致性率先使用创新材料-包括混合陶瓷和硅木化物-制造机械和机能组件并性能满足这些需求提供光学处理EUV辐射的独特需求

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